Single清洗机

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单片湿法刻蚀清洗机

单片湿法刻蚀清洗机

主要用于半导体及微显示产品清洗、湿刻、显影、剥离工艺，配合清洗化学药液、高压水清洗、常压水清洗、兆声波清洗、二流体水清洗、UV照射、毛刷和喷洒清洗剂等手段，可有效去除基板表面颗粒、有机物、金属离子等杂质。

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单片湿法去胶机

单片湿法去胶机

主要用于半导体及微显示产品清洗、湿刻、显影、剥离工艺，配合清洗化学药液、高压水清洗、常压水清洗、兆声波清洗、二流体水清洗、UV照射、毛刷和喷洒清洗剂等手段，可有效去除基板表面颗粒、有机物、金属离子等杂质。

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槽式湿法刻蚀清洗机

槽式湿法刻蚀清洗机

主要用于半导体及微显示产品清洗、湿刻、显影、剥离工艺，配合清洗化学药液、高压水清洗、常压水清洗、兆声波清洗、二流体水清洗、UV照射、毛刷和喷洒清洗剂等手段，可有效去除基板表面颗粒、有机物、金属离子等杂质。主要用于批式晶圆\玻璃湿法清洗、刻蚀、光刻胶去除等工艺，提供多个槽体进行化学药液或纯水，结合热浸、喷淋、溢流、快速冲洗等清洗方式，配合先进的IPA干燥方式，可同时对25或50片晶圆进行工艺处理，可广泛应用于集成电路制造领域。

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槽式湿法去胶机

槽式湿法去胶机

主要用于半导体及微显示产品清洗、湿刻、显影、剥离工艺，配合清洗化学药液、高压水清洗、常压水清洗、兆声波清洗、二流体水清洗、UV照射、毛刷和喷洒清洗剂等手段，可有效去除基板表面颗粒、有机物、金属离子等杂质。主要用于批式晶圆\玻璃湿法清洗、刻蚀、光刻胶去除等工艺，提供多个槽体进行化学药液或纯水，结合热浸、喷淋、溢流、快速冲洗等清洗方式，配合先进的IPA干燥方式，可同时对25或50片晶圆进行工艺处理，可广泛应用于集成电路制造领域。

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江苏福拉特自动化设备有限公司

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